플라즈마 클리너 2L 40KHZF RF│연구·실험용 진공 표면처리 장비│Plasma Cleaner
PCL-2는 2리터 스테인리스 진공 챔버를 적용한 RF 플라즈마클리너로, 플라스틱 패키지, 웨이퍼, 글래스 슬라이드 등의 표면 오염 제거 및 표면 활성화를 수행하는 연구·실험용 장비입니다. 시료 준비 및 디바이스 제작 공정에서 세정, 포토레지스트 애싱, 잉크 제거, 젖음성 향상 공정에 활용 가능합니다.
주요특징
2L(Φ100mm × 270mm) 스테인리스 챔버 구조로 소형 시편 처리에 최적화되어 있습니다.
RF 출력 0~300W 조절 가능하여 다양한 소재 조건에 대응 가능합니다.
기본 40KHz RF 방식 (옵션: 13.56MHz 설계 가능)으로 안정적인 플라즈마 형성이 가능합니다.
자동 임피던스 매칭(50 Ohm) 기능으로 플라즈마 안정성이 우수합니다.
진공도 10Pa ~ 1000Pa 범위에서 제어 가능합니다.
세정 시간 1~100분 설정 가능하여 공정 재현성이 뛰어납니다.
유량 60~600ml/min 조절 가능으로 공정 제어가 용이합니다.
N₂, Ar, Air, 혼합가스 등 다양한 불활성 가스 적용이 가능합니다.
포토레지스트 애싱, 잉크 제거, 표면 활성화 및 젖음성 개선 공정에 적합합니다.
MCU 기반 자동/수동 모드 지원으로 운용이 간편합니다.
강제 공랭 방식으로 챔버 온도 65℃ 이하 유지합니다.
사양
| 모델명 | PCL-2 |
|---|---|
| 챔버 용량 | 2 L |
| 챔버 크기 | Φ100mm × 270mm |
| 챔버 재질 | Stainless Steel |
| 전원 | AC 220V, 50/60Hz |
| RF 출력 | 0~300W |
| RF 주파수 | 40KHz |
| 주파수 오차 | ±0.2KHz 이하 |
| 특성 임피던스 | 50 Ohm (자동 매칭) |
| 진공도 | 10Pa ~ 1000Pa |
| 세정 시간 | 1~100분 조절 |
| 가스 유량 | 60~600ml/min 조절 |
| 가스 종류 | N₂, Ar, Air, Mixed Gas (별도) |
| 제어 방식 | MCU 자동 / 수동 모드 |
| 냉각 방식 | 강제 공랭 |
| 챔버 온도 | 65℃ 이하 |
| 외형 크기 | 400 × 450 × 250 mm |
| 중량 | 36.5 kg |
배송안내
배송 지역 | 대한민국 전지역
배송비 | 4,000원 (100,000원 이상 결제시 무료배송)
배송기간 | 주말 공휴일 제외 2~5일
- 모든 배송은 택배사 사정으로 지연될 수 있습니다.
교환 및 반품 안내
- 고객 변심으로 인한 교환/반품은 상품 수령 후 14일 이내 가능합니다.
- 고객 귀책 사유로 인한 반품의 경우 왕복 택배비는 고객 부담입니다.
- 반품접수 기한이 지난 경우, 제품 및 패키지 훼손, 사용 흔적이 있는 제품은 교환/반품이 불가합니다.
주요특징
2L(Φ100mm × 270mm) 스테인리스 챔버 구조로 소형 시편 처리에 최적화되어 있습니다.
RF 출력 0~300W 조절 가능하여 다양한 소재 조건에 대응 가능합니다.
기본 40KHz RF 방식 (옵션: 13.56MHz 설계 가능)으로 안정적인 플라즈마 형성이 가능합니다.
자동 임피던스 매칭(50 Ohm) 기능으로 플라즈마 안정성이 우수합니다.
진공도 10Pa ~ 1000Pa 범위에서 제어 가능합니다.
세정 시간 1~100분 설정 가능하여 공정 재현성이 뛰어납니다.
유량 60~600ml/min 조절 가능으로 공정 제어가 용이합니다.
N₂, Ar, Air, 혼합가스 등 다양한 불활성 가스 적용이 가능합니다.
포토레지스트 애싱, 잉크 제거, 표면 활성화 및 젖음성 개선 공정에 적합합니다.
MCU 기반 자동/수동 모드 지원으로 운용이 간편합니다.
강제 공랭 방식으로 챔버 온도 65℃ 이하 유지합니다.
사양
| 모델명 | PCL-2 |
|---|---|
| 챔버 용량 | 2 L |
| 챔버 크기 | Φ100mm × 270mm |
| 챔버 재질 | Stainless Steel |
| 전원 | AC 220V, 50/60Hz |
| RF 출력 | 0~300W |
| RF 주파수 | 40KHz |
| 주파수 오차 | ±0.2KHz 이하 |
| 특성 임피던스 | 50 Ohm (자동 매칭) |
| 진공도 | 10Pa ~ 1000Pa |
| 세정 시간 | 1~100분 조절 |
| 가스 유량 | 60~600ml/min 조절 |
| 가스 종류 | N₂, Ar, Air, Mixed Gas (별도) |
| 제어 방식 | MCU 자동 / 수동 모드 |
| 냉각 방식 | 강제 공랭 |
| 챔버 온도 | 65℃ 이하 |
| 외형 크기 | 400 × 450 × 250 mm |
| 중량 | 36.5 kg |
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