플라즈마 클리너 2L 13.56MHz RF│연구·실험용 고진공 표면처리 세척장비│Plasma Cleaner
PCL-2H는 13.56MHz RF 전원을 적용한 2리터급 고진공 플라즈마클리너로, 웨이퍼·플라스틱 패키지·유리 슬라이드 등의 표면 오염 제거 및 표면 활성화를 정밀하게 수행하는 연구·공정용 장비입니다. 포토레지스트 애싱, 잉크 제거, 젖음성 향상 공정에 적합하며, 듀얼 가스 믹서와 1Pa급 고진공 제어가 가능한 상위 사양 모델입니다.
주요특징
13.56MHz RF 방식으로 산업 표준 주파수 기반 안정적 플라즈마 형성이 가능합니다.
RF 출력 0~300W 조절 가능하여 다양한 소재 조건에 대응 가능합니다.
1Pa~30Pa 고진공 범위 제어로 균일한 플라즈마 공정 구현이 가능합니다.
Φ100mm × 270mm, 2L 스테인리스 챔버 구조입니다.
50 Ohm 자동 임피던스 매칭으로 플라즈마 안정성이 우수합니다.
Two Channel Gas Mixer 기본 적용으로 2종 공정가스 제어가 가능합니다.
유량 10~160ml/min 정밀 제어가 가능합니다.
MCU 기반 자동/수동 모드 지원으로 공정 재현성이 뛰어납니다.
2XZ-2 진공펌프 기본 구성 모델입니다.
챔버 온도 65℃ 이하 유지(강제 공랭) 구조입니다.
포토레지스트 애싱, 표면 개질, 접착 전처리, 젖음성 개선 공정에 적합합니다.
사양
| 모델명 | PCL-2H |
|---|---|
| 챔버 용량 | 2 L |
| 챔버 크기 | Φ100mm × 270mm |
| 챔버 재질 | Stainless Steel |
| 전원 | AC 220V, 50/60Hz |
| 작동 전류 | 1.2A 이하 |
| RF 출력 | 0~300W |
| RF 주파수 | 13.56 MHz |
| 주파수 오차 | ±0.2KHz 이하 |
| 특성 임피던스 | 50 Ohm (자동 매칭) |
| 진공 범위 | 1Pa ~ 30Pa |
| 진공펌프 | 2XZ-2 포함 |
| 세정 시간 | 1~100분 조절 |
| 가스 유량 | 10~160 ml/min 조절 |
| 가스 종류 | N₂, Ar, Air, Mixed Gas (별도) |
| 제어 방식 | MCU 자동 / 수동 모드 |
| 냉각 방식 | 강제 공랭 |
| 챔버 온도 | 65℃ 이하 |
| 외형 크기 | 560 × 540 × 550 mm |
| 중량 | 45 kg |
배송안내
배송 지역 | 대한민국 전지역
배송비 | 4,000원 (100,000원 이상 결제시 무료배송)
배송기간 | 주말 공휴일 제외 2~5일
- 모든 배송은 택배사 사정으로 지연될 수 있습니다.
교환 및 반품 안내
- 고객 변심으로 인한 교환/반품은 상품 수령 후 14일 이내 가능합니다.
- 고객 귀책 사유로 인한 반품의 경우 왕복 택배비는 고객 부담입니다.
- 반품접수 기한이 지난 경우, 제품 및 패키지 훼손, 사용 흔적이 있는 제품은 교환/반품이 불가합니다.
주요특징
13.56MHz RF 방식으로 산업 표준 주파수 기반 안정적 플라즈마 형성이 가능합니다.
RF 출력 0~300W 조절 가능하여 다양한 소재 조건에 대응 가능합니다.
1Pa~30Pa 고진공 범위 제어로 균일한 플라즈마 공정 구현이 가능합니다.
Φ100mm × 270mm, 2L 스테인리스 챔버 구조입니다.
50 Ohm 자동 임피던스 매칭으로 플라즈마 안정성이 우수합니다.
Two Channel Gas Mixer 기본 적용으로 2종 공정가스 제어가 가능합니다.
유량 10~160ml/min 정밀 제어가 가능합니다.
MCU 기반 자동/수동 모드 지원으로 공정 재현성이 뛰어납니다.
2XZ-2 진공펌프 기본 구성 모델입니다.
챔버 온도 65℃ 이하 유지(강제 공랭) 구조입니다.
포토레지스트 애싱, 표면 개질, 접착 전처리, 젖음성 개선 공정에 적합합니다.
사양
| 모델명 | PCL-2H |
|---|---|
| 챔버 용량 | 2 L |
| 챔버 크기 | Φ100mm × 270mm |
| 챔버 재질 | Stainless Steel |
| 전원 | AC 220V, 50/60Hz |
| 작동 전류 | 1.2A 이하 |
| RF 출력 | 0~300W |
| RF 주파수 | 13.56 MHz |
| 주파수 오차 | ±0.2KHz 이하 |
| 특성 임피던스 | 50 Ohm (자동 매칭) |
| 진공 범위 | 1Pa ~ 30Pa |
| 진공펌프 | 2XZ-2 포함 |
| 세정 시간 | 1~100분 조절 |
| 가스 유량 | 10~160 ml/min 조절 |
| 가스 종류 | N₂, Ar, Air, Mixed Gas (별도) |
| 제어 방식 | MCU 자동 / 수동 모드 |
| 냉각 방식 | 강제 공랭 |
| 챔버 온도 | 65℃ 이하 |
| 외형 크기 | 560 × 540 × 550 mm |
| 중량 | 45 kg |
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