플라즈마 클리너 5L 13.56MHz RF│연구·실험용 고진공 표면처리 세척장비│Plasma Cleaner
PCL-5H는 13.56MHz RF 전원을 적용한 5리터급 고진공 플라즈마클리너로, 웨이퍼·플라스틱·유리 등 다양한 소재의 표면 세정 및 표면 활성화를 정밀하게 수행하는 상위 사양 모델입니다. 1Pa급 고진공 제어와 듀얼 가스 믹서 기본 구성을 통해 연구 및 공정 개발 환경에서 높은 공정 재현성과 안정성을 제공합니다
주요특징
산업 표준 13.56MHz RF 방식으로 안정적인 플라즈마 형성이 가능합니다
RF 출력 0~300W 조절 가능하여 다양한 소재 대응이 가능합니다
1Pa~30Pa 고진공 범위 제어가 가능합니다
Φ150mm × 270mm, 5L 스테인리스 챔버 구조입니다
50 Ohm 자동 임피던스 매칭으로 플라즈마 안정성이 우수합니다
Two Channel Gas Mixer 기본 적용으로 2종 가스 정밀 제어가 가능합니다
유량 10~160ml/min 정밀 제어가 가능합니다
2XZ-4 진공펌프 기본 구성 모델입니다
MCU 기반 자동/수동 모드 지원으로 공정 재현성이 뛰어납니다
챔버 온도 30℃ 이하 유지(강제 공랭)로 열 영향 최소화
포토레지스트 애싱, 표면 개질, 접착 전처리, 젖음성 개선 공정에 적합합니다
사양
| 모델명 | PCL-5H |
|---|---|
| 챔버 용량 | 5 L |
| 챔버 크기 | Φ150mm × 270mm |
| 챔버 재질 | Stainless Steel |
| 전원 | AC 220V, 50/60Hz |
| 작동 전류 | 1.2A 이하 (펌프 제외) |
| RF 출력 | 0~300W |
| RF 주파수 | 13.56 MHz |
| 주파수 오차 | ±0.2KHz 이하 |
| 특성 임피던스 | 50 Ohm (자동 매칭) |
| 진공도 | 1Pa ~ 30Pa |
| 세정 시간 | 1~100분 조절 |
| 가스 유량 | 10~160 ml/min 조절 |
| 가스 종류 | N₂, Ar, Air, Mixed Gas (별도) |
| 제어 방식 | MCU 자동 / 수동 모드 |
| 냉각 방식 | 강제 공랭 |
| 챔버 온도 | 30℃ 이하 |
| 외형 크기 | 560 × 540 × 550 mm |
| 중량 | 45 kg |
배송안내
배송 지역 | 대한민국 전지역
배송비 | 4,000원 (100,000원 이상 결제시 무료배송)
배송기간 | 주말 공휴일 제외 2~5일
- 모든 배송은 택배사 사정으로 지연될 수 있습니다.
교환 및 반품 안내
- 고객 변심으로 인한 교환/반품은 상품 수령 후 14일 이내 가능합니다.
- 고객 귀책 사유로 인한 반품의 경우 왕복 택배비는 고객 부담입니다.
- 반품접수 기한이 지난 경우, 제품 및 패키지 훼손, 사용 흔적이 있는 제품은 교환/반품이 불가합니다.
주요특징
산업 표준 13.56MHz RF 방식으로 안정적인 플라즈마 형성이 가능합니다
RF 출력 0~300W 조절 가능하여 다양한 소재 대응이 가능합니다
1Pa~30Pa 고진공 범위 제어가 가능합니다
Φ150mm × 270mm, 5L 스테인리스 챔버 구조입니다
50 Ohm 자동 임피던스 매칭으로 플라즈마 안정성이 우수합니다
Two Channel Gas Mixer 기본 적용으로 2종 가스 정밀 제어가 가능합니다
유량 10~160ml/min 정밀 제어가 가능합니다
2XZ-4 진공펌프 기본 구성 모델입니다
MCU 기반 자동/수동 모드 지원으로 공정 재현성이 뛰어납니다
챔버 온도 30℃ 이하 유지(강제 공랭)로 열 영향 최소화
포토레지스트 애싱, 표면 개질, 접착 전처리, 젖음성 개선 공정에 적합합니다
사양
| 모델명 | PCL-5H |
|---|---|
| 챔버 용량 | 5 L |
| 챔버 크기 | Φ150mm × 270mm |
| 챔버 재질 | Stainless Steel |
| 전원 | AC 220V, 50/60Hz |
| 작동 전류 | 1.2A 이하 (펌프 제외) |
| RF 출력 | 0~300W |
| RF 주파수 | 13.56 MHz |
| 주파수 오차 | ±0.2KHz 이하 |
| 특성 임피던스 | 50 Ohm (자동 매칭) |
| 진공도 | 1Pa ~ 30Pa |
| 세정 시간 | 1~100분 조절 |
| 가스 유량 | 10~160 ml/min 조절 |
| 가스 종류 | N₂, Ar, Air, Mixed Gas (별도) |
| 제어 방식 | MCU 자동 / 수동 모드 |
| 냉각 방식 | 강제 공랭 |
| 챔버 온도 | 30℃ 이하 |
| 외형 크기 | 560 × 540 × 550 mm |
| 중량 | 45 kg |
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